w0mbat
Lt. Commander
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- Juni 2006
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Front- und backside beschreiben die Ausrichtung des wafers im FEOL, also wenn die Transistoren geformt werden. Bisher sitzen alle Kontakte, also sowohl data als auch power, auf den Transistoren oben drauf. Das passiert im BEOL, dort werden die metal layers gebildet. Wenn der chip fertig ist, wird er gedreht, da die Kontakte Richtung PCB zeigen muessen. Daher "flip chip".
Bei BSPD werden die data metal layers wie bisher auf der "frontside" gebildet, die power layers aber auf der backside. Dafuer muss der wafer ausgeduennt werden. Damit dieser nicht kaputt geht, wird ein sog. "carrier wafer" angebracht.
Wenn der chip fertig ist hat man die data metal layers auf der frontside und die power metal layers (+ global IC) auf der backside. D.h. man muss den chip nicht mehr drehen, die backside geht zum PCB und die frontside schaut nach oben.
Ich hoffe ich habe es verstaendlich erklaert. Mit BSPD gibt es kein flip chip mehr, meine Aussage ist korrekt.
Bei BSPD werden die data metal layers wie bisher auf der "frontside" gebildet, die power layers aber auf der backside. Dafuer muss der wafer ausgeduennt werden. Damit dieser nicht kaputt geht, wird ein sog. "carrier wafer" angebracht.
Wenn der chip fertig ist hat man die data metal layers auf der frontside und die power metal layers (+ global IC) auf der backside. D.h. man muss den chip nicht mehr drehen, die backside geht zum PCB und die frontside schaut nach oben.
Ich hoffe ich habe es verstaendlich erklaert. Mit BSPD gibt es kein flip chip mehr, meine Aussage ist korrekt.